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삼성전자, 시스템반도체 분야 133조 투입

‘글로벌 1위’ 달성 청사진 발표
2030년까지 1만5천명 채용
화성캠퍼스 신규라인 투자 계속

삼성전자가 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5천명을 채용하기로 했다.

메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체를 비롯한 비메모리 사업에서도 글로벌 1위를 달성하겠다는 청사진이다.

삼성전자는 이같은 내용을 담은 ‘반도체 비전 2030’을 24일 발표했다.

삼성은 우선 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 각각 투자하기로 했다.

대규모 R&D 투자를 통해 국내 시스템 반도체 연구 인력 양성에 기여하는 동시에 시설 확충을 통해 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 전반의 발전에 기여한다는 것이다.

이와 관련 향후 화성캠퍼스의 신규 EUV(극자외선) 생산라인을 활용해 생산량을 늘리고, 신규 라인 투자도 계속 진행하기로 했다.

기술경쟁력 강화를 위해선 시스템 반도체 R&D 제조 전문인력 1만5천명을 채용하기로 했다.

이 계획이 실행되면 오는 2030년까지 연평균 11조원의 R&D·시설 투자가 집행되고, 생산량이 늘어나 42만명에 달하는 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 회사 측은 기대했다.

이와 함께 국내 팹리스(반도체 설계 전문업체)를 지원하는 등 상생협력을 통해 국가 차원의 시스템 반도체 산업 생태계 구축을 선도하기로 했다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원할 예정이다.

효과적인 제품 개발을 위해 자체 개발한 설계 및 불량 분석 툴과 소프트웨어 등도 지원하기로 했다.

/이주철기자 jc38@








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