이재용 삼성전자 부회장이 20일 EUV(Extreme Ultra Violet·노광 기술) 전용 반도체 생산라인을 찾아서 ‘시스템 반도체 1위’기업으로 도약 의지를 다졌다.

20일 이 부회장은 올해 2월부터 본격적인 가동을 시작한 EUV 전용 반도체 생산라인을 찾아 “지난해 우리는 시스템 반도체 1등의 비전을 심었다”며 “긴 여정의 첫 단추를 끼웠다”고 말했다.

삼성전자 V1라인은 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 예정이다.

특히 V1라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기에 완공됐다. 삼성전자는 이 라인에 누적 60억달러(약 7조원)를 투자했으며 올해 말까지 7나노 이하 제품 생산 규모가 전년보다 약 3배 이상 확대할 것으로 삼성전자는 예상하고 있다.

이 부회장은 올해 첫 경영 일정으로 1월2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾은 데 이어 한달 만에 또 EUV 첫 전용라인을 찾아 시스템 반도체 1등 기업에 대한 의지를 피력하고 있다.

지난해 4월 삼성전자는 화성사업장에서 시스템 반도체에 오는 2030년까지 133조원을 투자하고 1만5천여명을 채용하는 계획을 담은 ‘반도체 비전 2030’을 발표하며 집중 투자를 선언한 바 있다.

한편 삼성전자 관계자는 “최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로설계) 기업과 협력을 추진하며 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다”며 “V1라인은 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대한다”고 설명했다.

/방기열기자 red@