가천대학교 반도체전자공학부의 최두호 교수가 2024년 하반기 삼성미래기술육성사업의 연구과제로 선정됐다. 이번 연구는 오는 12월부터 4년간 진행될 예정이며, 핵심 주제는 ‘초저저항 인터커넥션 구현을 위한 barrier-free 및 초평탄 표면 형성 기술’이다. 이를 통해 최 교수는 고성능과 저전력을 동시에 구현하는 반도체 소자 개발의 기틀을 다지겠다는 목표를 세우고 있다.

최 교수는 반도체 소자의 성능을 좌우하는 인터커넥션의 저항을 획기적으로 낮추는 새로운 공정기술을 제안했다. 해당 기술은 차세대 반도체 제조에 중요한 핵심 기술로 자리 잡을 전망이다. 이를 통해 미래 고성능 반도체 소자의 생산 효율성을 크게 향상시킬 수 있을 것으로 기대된다.

삼성미래기술육성사업은 삼성전자가 대한민국의 기초과학 및 산업기술 발전을 지원하고, 사회 문제 해결에 기여하기 위해 2013년부터 운영 중인 공익 연구지원 프로그램이다. 올해 하반기에는 기초과학 7건, 기술개발 31건을 포함한 총 38개의 연구과제가 선정됐으며, 최 교수의 연구도 그 중 하나로 선정됐다.

[ 경기신문 = 김정기 기자 ]