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SK하이닉스, 10나노급 5세대 기술 적용 D램 검증 절차 돌입

 

SK하이닉스가 현존 D램 중 가장 미세화된 10나노급 5세대(1b) 기술 개발을 완료하고, 이 기술이 적용된 서버용 DDR5를 인텔에 제공해 '인텔 데이터센터 메모리 인증 프로그램(The Intel Data Center Certified memory program)' 검증 절차에 돌입했다.

 

이 프로그램은 인텔의 서버용 플랫폼인 제온 스케일러블 플랫폼(Intel® Xeon® Scalable platform)에 사용되는 메모리 제품의 호환성을 공식 인증하는 성격을 갖고 있다.

 

인텔에 제공된 DDR5 제품은 동작속도가 6.4Gbps(초당 6.4기가비트)로, SK하이닉스 기술진은 현재 시장에 나와 있는 DDR5 중 최고 속도를 구현했다. DDR5 초창기 시제품보다 데이터 처리 속도가 33% 향상됐다.

 

SK하이닉스는 또 'HKMG(High-K Metal Gate)' 공정을 적용해 1a DDR5 대비 전력 소모를 20% 이상 줄였다.

 

HKMG는 유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량(Capacitance)을 개선한 차세대 공정이다. 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있다.

 

김종환 SK하이닉스 부사장(DRAM개발담당)은 "이번 제품에 앞서 지난 1월 10나노급 4세대(1a) DDR5 서버용 D램을 4세대 인텔 제온 스케일러블 프로세서(4th Gen Intel® Xeon® Scalable processors)에 적용해 업계 최초로 인증 받았다"며 "이번 1b DDR5 제품 검증도 성공적으로 마무리될 것으로 본다"고 말했다.

 

김 부사장은 이어 "올해 하반기부터 메모리 시장 상황이 개선될 것이라는 전망이 나오는 가운데, 당사는 1b 양산 등 업계 최고 수준의 D램 경쟁력을 바탕으로 하반기 실적 개선을 가속화할 것"이라며 "내년 상반기에는 최선단 1b 공정을 LPDDR5T, HBM3E로도 확대 적용할 것"이라고 말했다.

 

[ 경기신문 = 박시형 기자 ]









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