반도체 핵심 기술을 빼돌려 중국에 반도체 공장을 건설하려 한 전직 삼성전자 임원 등 일당이 재판에 넘겨졌다.

12일 수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(박진성 부장검사)는 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 A씨(65)를 구속기소했다고 밝혔다.

또 A씨가 대표로 있는 중국 반도체 제조회사 직원과 공장 설계 도면을 빼돌린 협력업체 직원 등 6명을 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 불구속기소했다.

A씨 등은 지난 2018년 8월부터 2019년까지 삼성전자의 영업 비밀을 부정 취득하고 사용한 혐의를 받고 있다.

이들이 빼돌린 영업 비밀은 반도체 공장 BED(Basic Engineering Data)와 공정 배치도, 설계도 등인 것으로 조사됐다.

BED는 삼성전자가 30여 년간 시행착오 끝에 개발한 기술로 반도체 제조 과정에서 온도와 습도 등을 제어해 불순물이 생기지 않도록 하는 ‘클린룸’에 쓰인다. 노트북과 휴대전화 등에 사용되는 ‘30나노 이하급 D램’과 ‘낸드플래시’ 공정 기술에 필요한 국가 핵심기술로 알려졌다.

이들은 중국 시안에 있는 삼성전자 반도체 공장 인근에 사실상 ‘삼성전자 복사판 반도체 공장’을 건설하기 위해 범행한 것으로 확인됐다.

A씨는 범행을 위해 연봉 2배와 자녀 교육 등 조건을 미끼로 국내 반도체 관련 인력 200여 명을 본인 회사로 영입하고, 삼성전자 영업 비밀의 입수를 지시했다.

그러나 대만의 한 전자제품 생산업체가 약정한 8조 원 투자가 물거품이 되면서 실제 공장 건설은 실패한 것으로 전해졌다.

다만 A씨는 중국 청두시로부터 4600억 원을 지원받아 건설한 반도체 공장에서 삼성전자 기술이 적용된 반도체 시제품을 생산한 것으로 파악됐다.

이러한 범행이 이뤄질 수 있었던 것은 A씨가 '반도체 제조 분야 권위자'라는 평가를 받아 투자금 유치가 원활했기 때문이라고 검찰은 설명했다.

검찰은 이들의 범행이 기존 기술 유출 범죄인 단편적 산업 기술 유출 및 영업 기밀 누설과 달리, 실제 공장을 건설하려 한 만큼 죄질이 중하다고 설명했다. 삼성전자는 최소 3000억 원에 이르는 피해를 봤으며, 최대 수조 원에 이르는 국가핵심기술이 유출됐다.

이번 사건은 2019년 국가정보원이 해당 첩보를 검찰에 전달하면서 조사가 진행됐다. 그러나 A씨가 중국에 체류하고 있어 수사가 지지부진하던 차에 지난 2월 A씨가 병원 치료를 위해 국내에 입국해 수사가 급물살을 탔다.

현재 A씨는 모든 혐의를 완강히 부인하고 있으며, 기소된 이들 중 일부만 범행 사실을 자백한 것으로 알려졌다.

검찰 관계자는 “추가 유출 정황 등 범죄 여부를 계속 수사할 방침”이라며 “국내 반도체 산업 근간을 흔드는 중대 범행에 대해 엄정하게 대응하겠다”고 밝혔다.

[ 경기신문 = 박진석 기자 ]